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反応性イオンエッチング装置

装置名
反応性イオンエッチング装置
SPUTTER
型番名 RIE-10NR
メーカー名 サムコ
使用目的 Si、SiO2薄膜をフロロカーボンの反応性イオンにより高精度にエッチングできる。        
参考データへのリンク 装置の詳細ページ

装置仕様

試料サイズ 8インチウエハ対応
高周波出力 300W
ガス CF4, CHF3, O2