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パターン投影リソグラフィーシステム

装置名
パターン投影リソグラフィーシステム
SPUTTER
型番名 µPG501
メーカー名 Heidelberg Instruments
使用目的 デジタルミラー素子(DMD)を用いることでパターン投影し、クロムマスクブランクやレジスト塗布基板に最小1 µmの回路パターンを超高速で作成できる。
参考データへのリンク 装置の詳細ページ

装置仕様

光源 LED(波長390nm) 
最大基板サイズ 5インチ
対応フォーマット DXF, GDSII, Gerber, CIF等
対応レジスト SU-8, i線およびg線用等