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利用事例

FIB-SEM

テーマ:金属片の切り出しと、3次元組成評価

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受託内容:金属内部の組成観察を行うため、50nmピッチで金属片をスライス加工し、80枚の連続SEM像により3D-SEM像を構築しました。

      

テーマ:デンプン顆粒の構造解析

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受託内容:乾燥したデンプン顆粒の内部構造観察は、樹脂の浸透が悪く超薄型片作製が困難であり、TEM観察は難しい状況です。そのようなデンプン顆粒の内部構造観察に成功しました。

     

テーマ:CNT成長基部構造の断面観察と組成分析評価、ならびにTEM用薄片の作製

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受託内容:浸炭させた高純度鉄の亀裂面には、亀裂面を橋渡しするようにカーボンナノチューブが成長します。亀裂面に直角な断面に沿ってサンプルを切り出して断面観察・組成分析を行いました。またTEM用薄片試料も作成可能です。

テーマ:SETナノギャップ構造の断面観察評価

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受託内容:金メッキにより形成した2nmのギャップと25個の金原子で形成されたアイランドからなる単電子トランジスタをCAT-CVD SiN膜でパッシベートした構造について、ナノギャップ間の堆積状態を観察します。

EB描画装置

テーマ:微細電極パターンの形成

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受託内容:カーボンナノチューブの電気特性評価用に、極細の電極パターンを形成しました。EB露光によりレジストパターンを形成し(左図)、その後、スパッタ法により電極を堆積してリフトオフ法で電極パターンを形成します(右図)。

      

テーマ:方向性結合導波路の形成

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受託内容:Si基板上に形成したSiO2膜に、EB描画により微細なレジストパターンを形成し、エッチングにより導波路構造を形成しました。

パターン投影リソグラフィ・ダイシング

テーマ:電極パターンの形成

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受託内容:レジストパターンに、EB蒸着法により電極を堆積し、リフト法で電極パターンを形成しました。

      

テーマ:フォトマスクの作製

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受託内容:パターン投影リソグラフィを利用して、金属/ガラス基板上にレジストパターンを形成し、金属をエッチングしてフォトマスクを作製しました。作成後、ダイシングを行い複数のフォトマスクを分離しました。

走査型プローブ顕微鏡

テーマ:表面形状の観察

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受託内容:層状物質の1つであるMoS2膜の段差を測定しました。

レーザ描画装置

テーマ:レジストへのマスクレス微細構造の形成

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受託内容:レーザー光でレジスト上にパターンを直接描画(マスクレス描画)するための装置です。レジストにさまざまな形状のパターンを形成できます。

デバイスシミュレーター (SILVACO. ATHENA/ATLAS)

SILVACOlogo

テーマ:Siナノワイヤトランジスタの電気特性の最適化とそれを実現するデバイス構造のシミュレーションによる検証実験

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受託内容:大きな電流密度が実験的に得られているSiナノワイヤトランジスタについて、デバイスシミュレーターを用いて高密度化の理由について確認を行うとともに、さらなる高密度化への構造最適化を行います。また、メタルソース・ドレイン材料の選定とその構造の最適化を行います。これらはデバイス試作の効率化のために先行して行うものです。

テーマ:Si系ショットキ障壁型トンネルトランジスタ(TFET)のシミュレーションによる検討

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受託内容:トンネル伝導機構を用いたトンネルトランジスタが期待されています。この素子はMOSFETより小さなS値が可能なため、急峻にON/OFFの切り替えが可能だと予測されますが、高いON電流の達成が課題です。本件では、小さいS値と高いON電流を達成するための最適な構造を検討します。

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次世代の新原理トランジスタ候補であるトンネルFETの電気特性シミュレーション(基板不純物濃度依存性)

第一原理計算に基づいた材料設計から、生産現場で用いられている2D, 3Dデバイスシミュレーションまで広範囲な支援が可能です。予め、シミュレーションによる仮想実験・評価を行うことで、デバイス構造の最適化を行い、試作の効率化を図ることが可能です。

レーザー描画装置(Heidelberg instruments, DWL66)

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レーザー描画装置によるフォトマスク作製、及びマイクロデバイス作製例

マスクレス・レーザーリソグラフィーシステムを用いることで、クロムマスクブランクから高品位・高精度なフォトマスクを作製する事が出来ます。当センターでは、この他にもマスクアライナやエッチング装置、製膜装置、各種評価装置を有しており、フォトリソグラフィーを用いた微細加工によるマイクロデバイスの迅速な研究開発を支援することが可能です。